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本发明公开了一种光学靶标及其加工设备。所述光学靶标上光栅的周期范围为:0.05毫米1毫米。上述光学靶标的加工设备,包括激光切割装置和激光切割辅助气体供应装置,所述辅助气体供应装置包括普通气体发生装置、设于普通气体发生装置气体输出管道上的普通气体净化装置,所述辅助气体供应装置还包括液氧发生装置以及将液氧发生装置产生的液氧汽化的液氧汽化装置,所述液氧汽化装置和普通气体净化装置的输出端分别通过气体调节阀。