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去除纳米氧化铝模板背面剩余铝的方法
    本发明涉及一种去除纳米氧化铝模板背面剩余铝的方法。

    人们在制作纳米材料时常使用纳米结构模板，从空间构型上来分，人工纳米结构组装体系可分为无序纳米结构组装体系(如无序SiO2介孔复合体)和有序的纳米结构组装体系(如Al2O3基纳米结构组装体系)。有序的纳米结构组装体系的重要前提和先决条件是纳米结构模板，为了将一定功能的纳米颗粒、纳米线、纳米棒等基元组装进纳米结构模板的纳米空间，出于可行、经济和方便的多方考虑，目前一般都采用氧化铝模板并将其做成双通的，这就要去除纳米氧化铝模板背面的剩余铝。为解决这一问题，有采用氯化汞去除法，它是在氧化铝模板背面剩余铝的表面上用氯化汞溶液浸润，以利用汞的催化作用，使铝生成氧化铝从而除去剩余铝；但是，这种方法有诸多的不足，首先，去除铝时不易控制，且去除不干净，易有剩余，故成功率低，其次，汞对人体、环境的毒性大，易造成污染。还有用等离子体刻蚀法的，它是用等离子体来轰击氧化铝模板背面的剩余铝，以使其减薄，直至消除，但这又有去除成本太高的缺憾。

    本发明的目的是提供一种高效、无毒害、低成本的去除纳米氧化铝模板背面剩余铝的方法。

    为实现上述目的，本发明的去除纳米氧化铝模板背面剩余铝的方法是：将待去除剩余铝地纳米氧化铝模板置于活性低于铝的金属氯化物饱和溶液中浸润0.5分钟以上，之后用水冲洗浸润面。

    作为本发明的进一步改进，所述的活性低于铝的金属氯化物饱和溶液为四氯化锡饱和溶液或氯化铜饱和溶液或氯化铁饱和溶液；所述的水为去离子水；在将待去除剩余铝的纳米氧化铝模板置于金属氯化物饱和溶液中浸润之前，先将其置于强碱性溶液中浸润0.5分钟以上，再用水冲洗干净；所述的强碱性溶液为氢氧化纳溶液或氢氧化钾溶液。

    采用这样的方法后，由于是用活性低于铝的金属氯化物饱和溶液来浸润待去除剩余铝的纳米氧化铝模板，所以其间的化学反应为：---(反应I)和或或---(反应II)，在整个反应过程中，以反应II为主，同时又有反应I；其中，反应II为置换反应；又由于作为活性低于铝的金属氯化物饱和溶液为四氯化锡饱和溶液或氯化铜饱和溶液或氯化铁饱和溶液，因其价廉、无毒、与铝的反应快、且生成的反应物也无毒，故使其同时具有去除剩余铝的成功率高、成本低、无污染的特点；再由于在将待去除剩余铝的纳米氧化铝模板去铝前，先将其置于强碱性溶液中进行清洁处理，使得去铝的效果更快、更好。

    下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细的描述。

    实施例一：

    取一待去除剩余铝的氧化铝模板，将其置于氢氧化钠溶液中静置半分钟，再用水冲洗干净。封装该氧化铝模板，使其需去除剩余铝的部分暴露在外。之后，将此氧化铝模板置于四氯化锡饱和溶液中浸润半分钟。取出后将其用去离子水冲洗干净，以将生成的锡与剩余的溶液一并冲洗掉，即可得到一背面剩余铝去除干净的纳米氧化铝模板。

    实施例二：

    取一待去除剩余铝的氧化铝模板，将其置于氢氧化钾溶液中静置两分钟后，用水冲洗干净。封装该氧化铝模板，使其需去除剩余铝的部分暴露在外。之后，将此氧化铝模板置于氯化铜饱和溶液中浸润一分钟。取出后用水将生成的铜与剩余的溶液一并冲洗干净，即可得到一背面剩余铝去除干净的纳米氧化铝模板。

    实施例三：

    取一待去除剩余铝的氧化铝模板，将其置于氢氧化纳溶液中静置一分钟后，用水冲洗干净。封装该氧化铝模板，使其需去除剩余铝的部分暴露在外。之后，将此氧化铝模板置于氯化铁饱和溶液中浸润八分钟。取出后用水将生成的铁与剩余的溶液一并冲洗干净，即可得到一背面剩余铝去除干净的纳米氧化铝模板。