1、(10)授权公告号 CN 102511346 B (45)授权公告日 2013.06.19 CN 102511346 B *CN102511346B* (21)申请号 201110411101.4 (22)申请日 2011.12.12 A01G 16/00(2006.01) C05G 1/00(2006.01) C05D 9/02(2006.01) (73)专利权人 苏州硒谷科技有限公司 地址 215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路 166 号行政楼 (72)发明人 李伟 李飞 (74)专利代理机构 苏州创元专利商标事务所有 限公司 32103 代理人 范晴 (54) 发明名称 生产富有机硒
2、大米的方法 (57) 摘要 本发明公开了一种生产富有机硒大米的方 法, 所述富有机硒大米按照正常大米培育的方法 进行种植, 其特征在于所述方法包括在插秧前使 用富硒营养剂对水稻秧苗进行蘸根处理, 再插秧 至大田中 ; 通过常规水稻种植方法进行种植, 收 获富有机硒稻谷, 加工得到富有机硒大米的步 骤 ; 所述富硒营养剂包括有效施用量的含硒物 质和硫酸钾。该方法得到的大米硒含量为 50 300g/kg, 较普通大米提高 2 10倍, 有机硒占 比 80%, 达到富有机硒大米的标准。 (51)Int.Cl. 审查员 刘明强 权利要求书 1 页 说明书 5 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局
3、(12)发明专利 权利要求书1页 说明书5页 (10)授权公告号 CN 102511346 B CN 102511346 B *CN102511346B* 1/1 页 2 1. 一种生产富有机硒大米的方法, 所述富有机硒大米按照正常大米培育的方法进行种 植, 其特征在于所述方法包括在插秧前使用富硒营养剂对水稻秧苗进行蘸根处理, 再插秧 至大田中 ; 通过常规水稻种植方法进行种植, 收获富有机硒稻谷, 加工得到富有机硒大米的 步骤 ; 所述富硒营养剂包括有效施用量的含硒物质和硫酸钾 ; 所述富硒营养剂中含硒物质 选自硒酸盐、 亚硒酸盐、 硒代氨基酸、 硒蛋白、 硒多肽、 酵母硒、 硒化卡拉胶和纳
4、米硒植物营 养剂的一种或两种以上的任意混合。 2. 根据权利要求 1 所述的方法, 其特征在于所述富硒营养剂中硒含量为 5100mg/kg。 3. 根据权利要求 1 所述的方法, 其特征在于所述富硒营养剂中硒含量为 2080mg/kg。 4. 根据权利要求 1 所述的方法, 其特征在于所述富硒营养剂通过如下方法进行配制 : 将田土与浓度为 0.3% 的硫酸钾溶液混合形成泥浆, 以泥浆作为基质, 加入含硒物质混匀得 到富硒营养剂。 5. 根据权利要求 1 所述的方法, 其特征在于所述富硒营养剂的用量按照每亩大田使用 5kg 田土的用量进行计算得到。 6. 根据权利要求 1 所述的方法, 其特征在
5、于所述蘸根处理步骤包括在秧苗起秧后, 将 秧苗根部在富硒营养剂中浸蘸 35 次, 浸蘸时使秧苗根部完全浸入富硒营养剂的步骤 ; 蘸 根处理后按照常规水稻插秧操作, 将浸蘸处理后秧苗移栽至大田。 权 利 要 求 书 CN 102511346 B 2 1/5 页 3 生产富有机硒大米的方法 技术领域 0001 本发明设计一种富有机硒大米的生产方法, 属于农业施肥和农艺技术领域。 技术背景 0002 大米是我国的主要粮食作物, 全国以大米为主食的人口约占总人口数的 50。我 国水稻种植面积达 2996 万公顷, 分布区域辽阔。由于粮食压力等历史原因, 我国水稻生产 过去以高产为目标, 对稻米量元素含
6、量的重视程度较低, 随着居民生活水平的日益提高及 对外贸易的发展, 水稻的富微量元素技术开发将会受到更多的重视。 0003 硒, 元素符号 Se, 是一种人体必需微量元素, 是谷胱甘肽过氧化物酶 (GSH-Px) 的 活性中心 . 具有抗癌、 抗衰老 ( 抗氧化 ) 和提高人体免疫力、 拮抗重金属等生物学特性。中 国营养学会推荐人均每日硒摄入量为 50-200 微克。但现在我国成人的日硒摄入量仅有 26-32 微克, 因此, 硒营养不良的情况在我国普遍存在。WHO 公布的资料表明, 全球有 40 多 个国家属于低硒或缺硒地区。食物链中的硒主要来源于土壤, 不同地区土壤中硒含量分布 不均匀的。我
7、国有 72的县 ( 市 ) 低硒或缺硒, 黑龙江、 内蒙古、 甘肃、 青海、 四川等严重缺 硒地区有克山病、 大骨节病发生, 一些癌症高发区 ( 如江苏启东市 ) 也属低硒区。依据局部 贫硒土壤线索实施和开展针对性的富硒工作, 优化食物链中的硒含量水平是农业生产研究 的一个重要方向。 0004 农产品中的硒分为无机硒和有机硒两大类。 无机硒包括硒酸盐、 亚硒酸盐、 硒化物 等。对人体和动物来说, 无机硒吸收效果差, 风险大, 使用不当极易造成硒中毒 ; 有机硒包 括硒蛋白、 硒代氨基酸、 硒多糖等等, 相对无机硒更易于吸收利用, 无毒性, 更适合补硒的要 求。 富硒农产品是人体补充硒元素有效途
8、径, 因此, 农产品硒营养强化技术是科学家们研究 开发并付诸实际生产的热点领域。水稻在居民饮食结构中的重要地位, 其硒含量水平对全 民硒营养状况有很大的决定意义。目前国内富有机硒大米生产方式主要有以下几种 : 0005 一种是在水稻灌浆期喷施无机硒溶液, 使水稻快速吸收无机硒从而达到富硒水 平。 如中国专利CN1608435A。 该方法中富硒营养剂技术含量低, 实施方式较为复杂, 需喷施 5 6 次, 而且最终大米中无机硒残留量很大, 由于无机硒吸收前必须先与肠道中的有机配 体结合才能被机体吸收利用, 而肠道中存在着多种元素与硒竞争有限配体, 不利于人体吸 收利用, 而且无机硒对机体有明显的毒
9、害作用。 0006 二是在天然富硒地区种植富集能力较强的水稻, 此方法可生产出比普通大米硒含 量更高的大米。但由于富硒地区土壤硒含量存在地域差异, 无法对大米中硒含量进行定量 控制, 有可能超过国家限量标准。存在地域局限和不稳定性, 不利于大规模的标准化生产。 0007 三是在水稻分蘖期追施富硒肥料, 如中国专利 CN101791081A。此方法可以保证大 米达到富硒标准, 无无机硒残留, 提高大米有机硒含量。但因为水稻特殊的水田种植方式, 在稻田灌水和放水操作过程中容易导致硒肥的流失, 降低硒肥利用率, 而且流失的硒容易 增加土壤和水体环境中硒的负担, 长期使用易导致硒污染。本发明因此而来。
10、 说 明 书 CN 102511346 B 3 2/5 页 4 发明内容 0008 本发明提供一种生产富有机硒大米的方法, 用此方法生产的大米硒含量为 50 300g/kg, 其中有机硒含量 80。 0009 为了解决现有技术中的这些问题, 本发明提供的技术方案如下 : 0010 一种生产富有机硒大米的方法, 所述富有机硒大米按照正常大米培育的方法进行 种植, 其特征在于所述方法包括在插秧前使用富硒营养剂对水稻秧苗进行蘸根处理, 再插 秧至大田中 ; 通过常规水稻种植方法进行种植, 收获富有机硒稻谷, 加工得到富有机硒大米 的步骤 ; 所述富硒营养剂包括有效施用量的含硒物质和硫酸钾。 0011
11、 优选的, 所述富硒营养剂中硒含量为 5 100mg/kg。 0012 优选的, 所述富硒营养剂中硒含量为 20 80mg/kg。 0013 优选的, 所述富硒营养剂中含硒物质选自硒酸盐、 亚硒酸盐、 硒代氨基酸、 硒蛋白、 硒多肽、 酵母硒、 硒化卡拉胶和纳米硒植物营养剂的一种或两种以上的任意混合。 0014 优选的, 所述富硒营养剂通过如下方法进行配制 : 将田土与浓度为 0.3的硫酸 钾溶液混合形成泥浆, 以泥浆作为基质, 加入含硒物质混匀得到富硒营养剂。 0015 优选的, 所述富硒营养剂的用量按照每亩大田使用 5kg 田土的用量进行计算得 到。 0016 优选的, 所述蘸根处理步骤包
12、括在秧苗起秧后, 将秧苗根部在富硒营养剂中浸蘸 3 5 次, 浸蘸时使秧苗根部完全浸入富硒营养剂的步骤 ; 蘸根处理后按照常规水稻插秧操 作, 将浸蘸处理后秧苗移栽至大田。 0017 本发明所述生产富有机硒大米的方法是, 在水稻育秧完成, 秧苗起秧之后, 用富硒 营养剂对水稻秧苗进行蘸跟处理, 再插秧至大田中。通过常规水稻种植管理收获富有机硒 稻谷, 并加工得到富有机硒大米。具体的生产步骤如下 : 0018 (1) 挖取配制用土, 晾干碾碎, 拣出作物根部、 残留茎叶、 石块等杂物, 过筛待用。 0019 (2) 配制 0.3的硫酸钾溶液。 0020 (3) 按照每亩 5kg 土用量, 用适量
13、的硫酸钾溶液配制泥浆基质。 0021 (4) 称取一定重量的含硒物质加入泥浆基质中, 边加边搅拌, 使两充分混合均匀, 得到含硒量为 5 100mg/kg 的富硒营养剂。 0022 (5) 秧苗起秧后, 在富硒营养剂中上下浸蘸 3 5 次, 注意要使秧苗根部完全浸入 富硒营养剂, 之后按照常规水稻插秧操作, 将处理后秧苗移栽至大田。 0023 (6) 按照普通水稻大田种植模式管理, 直到最后收获稻谷, 并加工后获得富有机硒 大米。 0024 本发明所述蘸根用富硒营养剂, 是以田土与 0.3的硫酸钾溶液配置的泥浆作为 基质, 与含硒物质混合并充分搅拌均匀制得。 0025 所述的含硒物质是指含硒无
14、机化合物 ( 硒酸盐、 亚硒酸盐等 )、 含硒有机化合物 ( 硒代氨基酸、 硒蛋白 )、 其他含硒制剂 ( 酵母硒、 硒化卡拉胶 ) 或者含硒肥料如纳米硒植物 营养剂 ( 苏州硒谷科技有限公司生产, 型号为 XGP001A)。也可以是上述含硒物质以任意比 例混合。 0026 本发明所述水稻蘸根用富硒营养剂中, 硒含量为5100mg/kg。 作为优选, 所述水 稻蘸根用富硒营养剂中硒含量为 20 80mg/kg。 说 明 书 CN 102511346 B 4 3/5 页 5 0027 相比现有技术, 本发明具有以下有益效果 : 0028 1、 依据 GB5009.93-2010 的检验方法, 按
15、照本发明生产的大米硒含量为 50 300g/kg, 较普通大米提高 2 10 倍, 有机硒占比 80, 达到富有机硒大米的标准。 0029 2、 本发明摒弃了传统的叶面喷施技术, 采用更加安全的根部吸收, 相比之下本发 明生产的富有机硒大米中的硒不会以无机残留态存在。无机硒向有机硒转化率大幅度提 高。相对于无机硒, 有机形态的硒安全性更高, 无毒副作用, 更易于人体吸收和利用。 0030 3、 本发明提供的生产富有机硒大米的过程, 操作简便, 降低了农民的劳动强度和 用工成本。 水稻秧苗根系表面有较为发达的铁系膜系统, 主要成分为铁的氧化物, 其对富硒 营养剂中的硒有较强的吸附作用, 在蘸根过
16、程中可将硒吸附固定到根系表面, 从而在水稻 成长过程中提供充足的硒源。使水稻从幼苗开始就由根部从土壤中吸收并积累硒, 在生长 发育过程中不断通过光合作用转化为有机硒, 积累和转化周期更长, 含量更稳定, 有机硒比 例更高, 达到 80以上。最终收获时得到质量稳定的富有机硒大米。 0031 4、 本发明与插秧后追施硒营养剂相比, 所添加的富硒营养剂位于水稻根际的土壤 中, 能与水稻根充分接触并被吸附或吸收, 大幅度提高硒营养剂的吸收利用率。不仅降低 了投入成本, 而且残留在土壤和水体中硒的量很小, 对环境中硒的几乎没有影响, 是一种高 效、 环保、 安全的生产方法。 0032 5、 富硒营养剂中
17、的钾肥可促进水稻秧苗生长, 培育壮秧。其硫酸根可与根系周围 的植物有效硒形成竞争吸收, 调节硒的释放和植物吸收速率, 保证水稻在整个生长过程中 不断的吸收有效硒释放并供给植物吸收。 具体实施方式 : 0033 以下实施例用于说明本发明, 但不能用来限制本发明的范围。实施例中采用的实 施条件可以根据具体厂家的条件作进一步调整, 未说明的实施条件通常为常规实验中的条 件。 0034 本发明实施例中硒含量测定方法按 GB 5009.93-2010食品中硒的测定 , 用氢化 物原子荧光光谱法检测硒含量。 0035 实施例 1 0036 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用水配制硒
18、浓度为 5ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。 之后正常田间管理收 获水稻后, 检测大米硒含量为 42.8g/kg。 0037 实施例 2 0038 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用 0.3的硫酸钾溶液配 制硒浓度为 5ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之 后正常田间管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 61.9g/kg。 0039 实施例 3 0040 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用无机硒盐, 与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度 为 5ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营
19、养剂中浸沾后插入田间。之后正常田 间管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 52.7g/kg。 0041 实施例 4 说 明 书 CN 102511346 B 5 4/5 页 6 0042 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用酵母硒, 与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 5ppm的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。 之后正常田间管 理收获水稻后, 检测大米硒含量为 50.3g/kg。 0043 实施例 5 0044 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用水配制硒浓度为 10ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。
20、之后正常田间管理收 获水稻后, 检测大米硒含量为 53.7g/kg。 0045 实施例 6 0046 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用 0.3的硫酸钾溶液配 制硒浓度为 10ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之 后正常田间管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 79.4g/kg。 0047 实施例 7 0048 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用无机硒盐与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 10ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之后正常田间 管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 65.3g/kg
21、。 0049 实施例 8 0050 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用酵母硒与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 10ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之后正常田间 管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 63.7g/kg。 0051 实施例 9 0052 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用水配制硒浓度为 20ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。 之后正常田间管理收 获水稻后, 检测大米硒含量为 56.2g/kg。 0053 实施例 10 0054 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营
22、养剂, 用 0.3的硫酸钾溶液配 制硒浓度为 20ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之 后正常田间管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 97.5g/kg。 0055 实施例 11 0056 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用无机硒盐与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 20ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之后正常田间 管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 68.0g/kg。 0057 实施例 12 0058 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用酵母硒与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 20ppm 的富硒营养剂, 水稻
23、插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之后正常田间 管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 67.6g/kg。 0059 实施例 13 0060 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用水配制硒浓度 40ppm 的 富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。 之后正常田间管理收获 水稻后, 检测大米硒含量为 83g/kg。 说 明 书 CN 102511346 B 6 5/5 页 7 0061 实施例 14 0062 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用 0.3的硫酸钾溶液配 制硒浓度为 40ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前,
24、 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之 后正常田间管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 147g/kg。 0063 实施例 15 0064 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用无机硒盐与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 40ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之后正常田间 管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 79.3g/kg 。 0065 实施例 16 0066 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用酵母硒与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 40ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之后正常田间 管理收获水稻后, 检测大米
25、硒含量为 76.4g/kg。 0067 实施例 17 0068 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用水配制硒浓度为 80ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。 之后正常田间管理收 获水稻后, 检测大米硒含量为 123g/kg。 0069 实施例 18 0070 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用 0.3的硫酸钾溶液配 制硒浓度为 80ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之 后正常田间管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 253g/kg。 0071 实施例 19 0072 于某水
26、稻种植基地, 水稻插秧时, 用无机硒盐与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 80ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。之后正常田间 管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 74.2g/kg。 0073 实施例 20 0074 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用水配制硒浓度 100ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。 之后正常田间管理收 获水稻后, 检测大米硒含量为 157g/kg。 0075 实施例 21 0076 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用纳米硒植物营养剂, 用 0.3的硫酸钾溶液配 制硒浓
27、度为 100ppm 的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。 之后正常田间管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 291g/kg。 0077 实施例 22 0078 于某水稻种植基地, 水稻插秧时, 用无机硒盐与 0.3的硫酸钾溶液配制硒浓度为 100ppm的富硒营养剂, 水稻插秧前, 将秧苗在富硒营养剂中浸沾后插入田间。 之后正常田间 管理收获水稻后, 检测大米硒含量为 80.4g/kg。 0079 上述实例只为说明本发明的技术构思及特点, 其目的在于让熟悉此项技术的人是 能够了解本发明的内容并据以实施, 并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精 神实质所做的等效变换或修饰, 都应涵盖在本发明的保护范围之内。 说 明 书 CN 102511346 B 7